MIPOX 『総合研磨メーカー』 『機能性薄膜塗布メーカー』
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MIPOX受託開発・加工サービス

 

総合研磨メーカーMIPOXは高性能な自社製品と高い加工技術力を生かし、各種ワークの表面からエッジまで、お客様の目的に合わせた形状・面精度到達に向けた受託開発・加工を承ります

特徴

総合研磨メーカーMIPOXによる豊富な研磨技術・ノウハウを自社製品と共に適用
小ロット試作〜量産対応、消耗品・研磨装置・プロセス・技術提供等、お客様のニーズに合わせて対応
専門のプロセス技術開発担当により、開発からの対応可能
評価設備も充実、加工前後の品質確認や評価も対応
チタンやSiC等難削材の鏡面加工も対応可能


受託加工対象品

素材 加工対象 加工内容 対応サイズ
●各種半導体用基板
 (Si、SiC、GaN、GaAs、サファイア、
 LiTaO3、LiNbO3、SiN、AlN、SiN、
 各種複合材料、etc.)
●太陽電池用基板
●各種金属基板
 (Cu、Al、SUS、Ti、Au、Ag、W、etc..)
●各種ガラス基板
 (石英、パイレックスガラス、強化ガラス、
 ソーダガラス、etc..)
●各種樹脂基板
●エッジ
(ベベル・ノッチ・オリフラ)

●表裏面
●ベベリング
●トリミング
●ポリッシュ

●ラップ
●ポリッシュ
Φ2インチ〜300mm

〜Φ4インチ
〜□300mm
●各種円筒材(Al、SUS、各種合金、ゴム、
 樹脂素材、DLC膜、Cr膜、etc..)
●表面 ●ラップ
●ポリッシュ
直径〜150mm、
長さ〜450mm
●各種フープ材(ロール to ロール) ●表面 ●ラップ
●ポリッシュ
別途ご相談
●各種ワークの測定・分析・解析 ●表面・エッジ ●測定 別途ご相談


受託加工例

SiN基板 焼結SiC基板
加工前 加工後 加工前 加工後
Ra=1156.7Å Ra=4.0Å Ra=1242.9Å Ra=3.9Å

アルミナ基板 AlN基板
加工前 加工後 加工前 加工後
Ra=7.7Å Ra=3.2Å Ra=128.5Å Ra=18.6Å

単結晶SiC基板 Cu膜表面研磨
加工前 加工後 加工前 加工後
Ra=41.4Å Ra=2.4Å Ra=106.9Å Ra=16.7Å

GaN基板面取り加工 ガラス基板面取り加工
加工前 加工後 加工前 加工後

結晶異常Siウェーハ面取り加工 SiCウェーハ面取り加工
加工前 加工後 加工前 加工後

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