Mipox株式会社

研磨ラボ

TOP > 研磨ラボ > GaN-on-Si 基板に対するフィルム研磨方式エッジポリッシュの有効性について①

GaN-on-Si 基板に対するフィルム研磨方式エッジポリッシュの有効性について①

  • LINEで送る
  • このエントリーをはてなブックマークに追加

GaN(窒化ガリウム)は、パワーデバイスやLED、高周波用途に使われる半導体材料です。 単結晶基板と共にSi(シリコンウェーハ)上にGaN層を成長させるGaN-on-Si(ガン・オン・シリコン)も近年...

  • LINEで送る
  • このエントリーをはてなブックマークに追加